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【備 注】：
TG2U型光刻機主要技術參數見下表：
項目 |
參數
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適用的掩模尺寸
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a.100X100X2－3mm；b.75X75X2—3mm；c.63X63X2—3(選購)；
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適用的硅片尺寸
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φ35—75mm
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光刻圖形線條
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3-4μm, 最細可達2μm
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掩模與硅片之間的相對位移范圍
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X/Y±2.5mm,(族轉) ±6°
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承片臺(硅片)繞主軸旋轉
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粗調360度,可微調
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承片工作臺綜合移動范圍
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X,Y合成φ75mm
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承片臺的球座平面至掩模板面升降
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0—7.5mm
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曝光燈源
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GCQ200W超高壓汞燈，曝光波長，300―436nm
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曝光系統能量不低于
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7mw
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曝光系統的照度均勻度在φ75mm范圍內
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±5％
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顯微鏡的照明波長
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≈545nm
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曝光時間控制范圍
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0.1秒—99分
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雙目顯微鏡的放大倍數
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a.目鏡共二種:10X,16X；b.平視場物鏡共三種:6X,9X,15X；c.合成放大倍率:60X—240X；
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真空接觸壓力
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≥0.7kgf
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裝箱尺寸
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1000X850X980mm(2只)
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裝箱重量
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200kg
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注：用戶有何特殊要求可協商。
注意：如果產品升級恕不另行通知，網站及資料會同步升級，并以實物為準！
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